【要点】 ◎中国がASML元技術者の協力を得てEUV露光装置の試作機を完成させたと報道。発光には成功し、2030年ごろの実用化を目指し、高性能半導体の自国生産が現実味を帯びている。

【ニュース】 ◆国産2nm半導体の生産を目指す日本の半導体メーカー・RapidusがASMLの量産対応EUV露光装置「NXE:3800E」の設置作業を開始 (Gigazine, 2024/12/20 12:55) https://gigazine.net/news/20241220-japan-rapidus-2nm-chips-euv-machine/